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nano-tech 2017 – Cluster Nanotechnology

The Cluster Nanotechnology will be participating the tenth time in a row now in nano tech 2017 exhibition with a 18 sqm joint stand of the Cluster Nanotechnology with participation of members from the Nanonetz Bayern e.V. and Cluster partners.

On the 2nd day of exhibitionFebruary 16th, 2017, 13:00 h – 14:00 h, the Cluster Nanotechnology presents in the Session “Innovations in Nanotechnologies – Success stories from Lab to Market” success stories from the network of the Cluster Nanotechnology

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PRISM AWARDS FINALISTS 2017

PRISM2017

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Presenting High-Precision 3D Printing Software

Save the date!

We are presenting our latest news during this year’s Photonics West Exhibition in San Francisco, Moscone Center, February 16 – 18, 2016, Booth: 4629-21. Learn more about our standard and customized high-precision 3D printer options LithoProf3D and our software package LithoSoft3D.

Celebrate with us our software product launch by downloading our LithoSoft3D Software Demo which will be available at the exhibition. You are invited to test our software which is available with our LithoProf3D high-precision 3D printer and as stand-alone software for GCode compatible manufacturing machines. It meets the most demanding requirements, and it is available for standard 3D structuring jobs and sophisticated work flows with selectable exposure strategies – 3D printing with highest precision from the nanometer to the centimeter scale.

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Interview with CEO Dr.Ruth Houbertz

Finance Monthly interviewed Multiphoton Optics’ CEO  Dr. Ruth Houbertz to get an insight into the CEO’s challenges and lessons learnt, among other aspects of a CEO’s life

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3D-Druck auf Nano- und Mikrometerskala

Im Gespräch

Ruth Houbertz,CEO

Als 3D-Laserlithografie wird der 3D-Druck auf Mikrometerskala bezeichnet: Mit dieser Technologie lassen sich komplexe dreidimensionale Strukturen im Mikrometerbereich und kleiner erzeugen. Damit können optische Komponenten, wie z.B. photonische Chips, Laserdioden und Glasfasern durch dreidimensionale optische Elemente miteinander verbunden werden. Multiphoton Optics baut und verkauft 3D-Laserlithografie-Anlagen und ermöglicht ihren Kunden damit die flexible Fertigung beliebig geformter dreidimensionaler Strukturen mit höchster Präzision. Vor allem im Bereich der optischen Datenübertragung wird die Technologie der 3D-Laserlithografie immer wichtiger.

Wir haben Dr. Ruth Houbertz, CEO der Multiphoton Optics GmbH, gefragt, wie 3D-Laserlithografie funktioniert, was die Einsatzgebiete sind und welche Neuerungen Multiphoton Optics zu bieten hat.
3D-Laserlitographie – der Begriff klingt erklärungsbedürftig. Können Sie uns kurz und in einfachen Worten erläutern, was das ist und wie es funktioniert?

Bei der 3D-Laserlitographie wird gepulstes Laserlicht in ein photochemisch reaktives Material, wie beispielsweise Polymere, Hybridpolymere oder spezielle Gläser, fokussiert. Nur am Ort des fokalen Volumens ist die Intensität hoch genug, um eine Reaktion im Material auszulösen. Bei polymeren Materialien kommt es dabei beispielsweise zu einer Vernetzungsreaktion. Wird der Laserfokus dann in drei Dimensionen durch das Material bewegt, wird das Material entlang der Spur des Fokusvolumens vernetzt. So können wir beliebige dreidimensionale Strukturen oder Formen mit sehr hoher Präzision an Oberflächen und in Volumen erzeugen.

Welche Einsatzgebiete gibt es für diese Technologie?

Die Einsatzgebiete der Technologie sind sehr vielfältig. Neben unterschiedlichsten Produkten aus dem Bereich der Photonik kann die Technologie auch in der Biomedizin oder den Life Sciences für neue Produkte eingesetzt werden,  die ohne diese Technologie gar nicht oder nur sehr schwer fertigbar wären. So lassen sich zum Beispiel Bio-Mikroreaktoren, mikrofluidische Zellen, Drug Delivery-Strukturen oder auch verschiedene Gerüststrukturen herstellen. In der regenerativen Medizin werden sie unter anderem im Tissue Engineering, also dem Herstellen von Gewebe aus körpereigenen Zellen, eingesetzt. Beispiele aus dem Bereich der Photonik sind etwa optische Wellenleiter für On-Chip-, Chip-zu-Chip- oder Chip-zu-Faser-Kopplung, die künftig für die Datenübertragung spannend sein werden. Darüber hinaus gibt es noch eine Vielzahl anderer Einsatzmöglichkeiten der Technologie, die der Phantasie nahezu keine Grenzen setzt.

Welche Rolle spielt die 3D-Laserlithografie speziell für Datenübertragungssysteme?

Durch die enorme Entwicklung des Internets in den letzten zehn Jahren wird der Bedarf an Bandbreite bzw. Kapazität immer größer. Die zur Verfügung stehenden Hochleistungscomputer können durch ihren inneren Aufbau mit elektrischen Datenleitungen mittlerweile nur sehr ineffizient arbeiten. Sie verbrauchen gewaltige Mengen an Energie, die durch Wärme verloren geht. Schon heute muss ein beträchtlicher Aufwand betrieben werden, um geeignete Standorte zu finden und aufwändige Kühlkonzepte zu entwickeln. Unabhängig von der Rechnerarchitektur und seiner Betriebsweise wurde schon vor einigen Jahren festgestellt, dass – sollten die Hochleistungscomputer weiterhin lediglich auf elektrischer Datenübertragung basieren – keine effiziente Nutzung mehr möglich ist. Hier kommt die optische Datenübertragung ins Spiel, denn sie benötigt erheblich weniger Energie pro übertragenem Bit. Dadurch würde sich die Effizienz von Hochleistungsrechnern signifikant steigern lassen. Einfach gesprochen muss die Optik näher an den Chip gebracht werden, also in den Rechner selbst. Hier steht man nun vor einem Dilemma: photonische Chips haben optische Ein- und Ausgänge (I/O) im Bereich von 100 bis 200 nm, die an Glasfasern, deren optische Ein- und Ausgänge (I/O) bestenfalls 10 µm groß sind, angekoppelt werden müssen. Zweidimensionale Herstellungsverfahren können diese Aufgabe einfach nicht leisten. Die 3D-Laserlithographie ist hier das Mittel der Wahl, denn sie ermöglicht durch ihre intrinsische 3D-Fähigkeit vollkommen neue Designkonzepte.

Im Vergleich zur klassischen Herstellung optischer Wellenleiter vereinfacht die Technologie der Multiphoton Optics GmbH den Produktionsprozess. Wieso ist das so?

Üblicherweise werden mit 2D-Strukturierungsverfahren, wie klassischer UV-Lithographie, zuerst die optischen Wellenleiter mit zum Teil mehr als 20 Prozessschritten definiert. Anschließend werden die opto-elektronischen Bauteile mittels aktiver und passiver Justage aufwändig assembliert. In dem von uns eingesetzten 3D-Verfahren werden die optischen Datenleitungen direkt auf Assemblies, d.h. schon mit optischen Bauteilen vorkonfektionierte Substrate, geschrieben. So kann jeder Kunde individuell mit den Assemblierungstools und Toleranzen arbeiten, die er zur Verfügung hat. Die optischen Wellenleiter können über einen weiten Größenbereich von ca. 100 nm bis in mehrere 10 µm und über größere Distanzen geschrieben werden und somit vom Chip an die Glasfaser gebracht, aber auch auf dem Chip selbst mit höchster Präzision hergestellt werden. Die aufwändige aktive und passive Justage optoelektrischer Bauteile wird dadurch erheblich einfacher, da sie rein passiv durchgeführt werden kann. Durch Verwendung spezieller Materialien können so auch Substrate, die aufgrund ihrer schlechten Oberflächenqualität für die Optik ungeeignet sind, verwendet werden. Typischerweise werden zur Herstellung der optischen Datenleitungen so weniger als fünf Prozessschritte benötigt, wobei in speziellen Fällen der letzte Prozessschritt schon ein in der jeweiligen Produktion eingesetzter Prozessschritt sein kann. Das Material erfüllt dabei vier unterschiedliche Funktionen: es formt den optischen Wellenleiter mit Kern und Mantel, und es bietet ausgezeichnete Planarisierungs- und dielektrische Eigenschaften. Unsere Technologie erlaubt damit nicht nur eine signifikante Reduktion der Produktionskosten, sondern sie ist auch sehr ressourcenschonend.

Warum wird die Entwicklung kostengünstiger und energieeffizienter Datenübertragungssysteme in Zukunft immer wichtiger?

In den vergangenen Jahren hat sich der Datenverkehr signifikant erhöht. Eine interessante Zusammenfassung der globalen Internetaktivitäten wurde 2013 von Intel gegeben. Sie betrachteten, was in einer Internetminute alles passiert. Sie prognostizierte zum Beispiel, dass man 2015 fünf Jahre brauchen würde, um alle Videos anzusehen, die in einer Sekunde über das Netz transferiert werden – eine beeindruckende Zahl. Die Anzahl der netzwerkenden Devices, die im Jahr 2013 noch der Anzahl der Weltbevölkerung entsprach, wurde für 2015 mit dem Zweifachen der Weltbevölkerung vorausgesagt. Und der Bedarf steigt weiter. Betrachtet man darüber hinaus die Entwicklungen in der industriellen Produktion mit ihrem flächendeckenden Einzug von Informations- und Kommunikationstechnik, der zusammengefasst als „Industrie 4.0“ bezeichnet wird, und der daraus resultierenden Vernetzung durch das „Internet der Dinge“, wird die enorme Bedeutung energieeffizienter und kostengünstiger optischer Datenübertragung ohne weitere Erläuterungen einfach klar.

Vielen Dank für das Interview, Frau Dr. Houbertz!

 

 aus: Fraunhofer Venture Newsletter 3/215

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Photonics West – Meet and Greet

San Francisco, February 12, 2015

Multiphoton Optics celebrates the Year of the Light with a series of different events and presentations throughout the year. Kickoff was this years‘ Photonics West, being held between February 7 to 12, 2015 in San Francisco, CA (USA).

In a joint presentation with microresist technology (MRT) GmbH (Berlin, Germany) in the Optical Interconnects XV conference (OPTO, #9368), Arne Schleunitz from MRT presented an overview towards high-precision manufacturing of 3D optical components using UV-curable hybrid polymers. Another joint presentation of Multiphoton Optics (MPO) with Fraunhofer ISC (Würzburg, Germany) was given by Sönke Steenhusen on Two-photon polymerization of hybrid polymers for applications in micro-optics in Photonics Wests‘ Advanced Fabrication Technologies for Micro/Nano Optics and Photonics VIII conference (LASE, #9374).

North America’s leading Photonics Industry Fair as integral part of Photonics West opened its doors from February 10 – 12, 2015, where Multiphoton Optics has launched its first customized, stand-alone 3D Lithography Equipment platform LithoProf3D®. The equipment is available for standard 3D structuring jobs and sophisticated work flows with selectable exposure strategies – 3D printing from the sub-100 nm to the cm scale with highest precision. Not only visitors with technical background were interested in Multiphoton Optics‘ technology. Germany’s Consul General Stefan Schlüter and Vice Consul General Johannes Bloos visited the booth, and they were eager to understand the impact of MPO’s platform technology on optical packaging for High-Performance Computing applications particularly with respect to energy aspects of optical data transfer.

From left to right: Germany’s Vice Consul General Johannes Bloos, Consul General Stefan Schlüter, and Ruth Houbertz, CEO of Multiphoton Optics GmbH

 

 

Take a closer look.

From left to right: Germany’s Consul General Stefan Schlüter, Horst Sickinger, CEO of Bayern Photonics e.V., Andreas Erhard, CEO of Photonics BW e.V., and Ruth Houbertz, CEO of

 

Mario Paniccia from Intel’s Silicon Photonics Group, Data Center Group, presented a keynote on Silicon Photonics for a New Era of Scalable Bandwidth on February 10, 2015, where he pointed out Intel’s perspective and trends for fundamental changes to data centers – enabled by silicon photonic interconnects and wafer-scale integration. This was the opening note for the podiums discussion moderated by Peter Hallet from SPIE’s Marketing and Industry Relations on Silicon Photonics and Photonic Integrated Circuits: an Industry Perspective, where Multiphoton Optics‘ CEO Ruth Houbertz was one of the participants, among other executives and representatives from Luxtera, IBM, Oracle, and IMEC (http://spie.org/PW/special-events/Industry-Event). From Mario Paniccia’s talk and the discussion it became obvious that the increasing demand for miniaturized and cheaper optical interconnects inside networks and computers will create a new market of miniaturized, low-cost photonic components that can leverage the scale of CMOS manufacturing.

 

Additional visibility for Multiphoton Optics was created by the Photonics West Show Daily Newspaper on February 11 and 12, respectively, where MPO was mentioned two times, one of which with a photo of the CEO’s hand holding a little statue of liberty created already in 2009 by Thomas Stichel, one of Ruth Houbertz’ PhD students in a Priority Program project funded by the German Science Society (SPP1327, grant HO 2475/3-1) with Multiphoton Optics’ 3D Lithography at the Fraunhofer ISC at that time.

Strong teams build the future. From left to right: Ruth Houbertz and Hermann Reitenbach (Multiphoton Optics GmbH) and Arne Schleunitz and Jan Klein (microresist technology GmbH), who shared the booth with MPO.

Multiphoton Optics would like to express its thank to all customers, partners, and friends for their great support which created a tremendous visibility for the present and upcoming markets on this year’s Photonics West.

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Multiphoton Optics launches 3D Lithography equipment platform

Multiphoton Optics celebrates the Year of the Light by launching its first customized, stand-alone 3D Lithography Equipment platform LithoProf3D® at Photonics West, North America’s leading Photonics Industry Fair, taking place in San Francisco from February 10 – 12, 2015.

The LithoProf3D®-RM, -RPH, and –RB equipment is designed for materials development in R&D environments, the fabrication of photonic elements such as optical waveguides, microlenses, or diffractive optical elements, and 3D structures for biomedical applications. The LithoProf3D® platform features adjustable footprint, application-specific laser power and wavelengths, and extremely high-precision positioning capabilities. The flexible software package meets the most demanding requirements, and it is available for standard 3D structuring jobs and sophisticated work flows with selectable exposure strategies – 3D printing from the sub-100 nm to the cm scale with highest precision.

Visit us to discuss your requirements and get a customized offer for your application at SPIE Photonics West from February 10 to 12, 2015, Hall D North, German Pavillion, Booth #4601-33.